A Nanoscale-Localized Ion Damage Josephson Junction Using Focused Ion Beam and Ion Implanter. | J Nanosci Nanotechnol;15(5): 3728-32, 2015 May. | MEDLINE

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A Nanoscale-Localized Ion Damage Josephson Junction Using Focused Ion Beam and Ion Implanter.

Wu, C H; Ku, W S; Jhan, F J; Chen, J H; Jeng, J T.

J Nanosci Nanotechnol ; 15(5): 3728-32, 2015 May.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-26504998

Assuntos

Íons/química; Nanoestruturas/química; Nanotecnologia/métodos; Eletroquímica; Ouro/química; Metais/química; Microscopia Eletrônica de Varredura; Oxigênio/química

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Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Nanotecnologia / Nanoestruturas / Íons Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Ano de publicação: 2015 Tipo de documento: Article

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