Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of TiAlN: Compositional and Optoelectronic Tunability. | ACS Appl Mater Interfaces;11(12): 11602-11611, 2019 Mar 27. | MEDLINE

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Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of TiAlN: Compositional and Optoelectronic Tunability.

Jeon, Nari; Lightcap, Ian; Mandia, David J; Martinson, Alex B F.

Afiliação

Lightcap I; Center for Sustainable Energy at Notre Dame , University of Notre Dame , Notre Dame , Indiana 46556 , United States.

ACS Appl Mater Interfaces ; 11(12): 11602-11611, 2019 Mar 27.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-30821951

Palavras-chave

dielectric functions; optical coating; plasma-enhanced atomic layer deposition; spectroscopic ellipsometry; titanium aluminum nitride

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: ACS Appl Mater Interfaces Assunto da revista: BIOTECNOLOGIA / ENGENHARIA BIOMEDICA Ano de publicação: 2019 Tipo de documento: Article

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