Three-dimensional line edge roughness in pre- and post-dry etch line and space patterns of block copolymer lithography. | Phys Chem Chem Phys;22(2): 478-488, 2020 Jan 02. | MEDLINE

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Three-dimensional line edge roughness in pre- and post-dry etch line and space patterns of block copolymer lithography.

Pinge, Shubham; Qiu, Yufeng; Monreal, Victor; Baskaran, Durairaj; Ravirajan, Abhaiguru; Joo, Yong Lak.

Afiliação

Pinge S; Robert Frederick Smith School of Chemical and Biomolecular Engineering, Cornell University, Ithaca, NY 14853, USA. ylj2@cornell.edu.

Phys Chem Chem Phys ; 22(2): 478-488, 2020 Jan 02.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-31822875

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Phys Chem Chem Phys Assunto da revista: BIOFISICA / QUIMICA Ano de publicação: 2020 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos

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