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The role of Ru passivation and doping on the barrier and seed layer properties of Ru-modified TaN for copper interconnects.
Kondati Natarajan, Suresh; Nies, Cara-Lena; Nolan, Michael.
Afiliação
  • Kondati Natarajan S; Tyndall National Institute, University College Cork, Lee Maltings, Dyke Parade, Cork T12 R5CP, Ireland.
  • Nies CL; Tyndall National Institute, University College Cork, Lee Maltings, Dyke Parade, Cork T12 R5CP, Ireland.
  • Nolan M; Tyndall National Institute, University College Cork, Lee Maltings, Dyke Parade, Cork T12 R5CP, Ireland.
J Chem Phys ; 152(14): 144701, 2020 Apr 14.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-32295379
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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: J Chem Phys Ano de publicação: 2020 Tipo de documento: Article País de afiliação: Irlanda
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