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Highly Tunable Thiol-Ene Photoresins for Volumetric Additive Manufacturing.
Cook, Caitlyn C; Fong, Erika J; Schwartz, Johanna J; Porcincula, Dominique H; Kaczmarek, Allison C; Oakdale, James S; Moran, Bryan D; Champley, Kyle M; Rackson, Charles M; Muralidharan, Archish; McLeod, Robert R; Shusteff, Maxim.
Afiliação
  • Cook CC; Lawrence Livermore National Laboratory, Livermore, CA, 94550, USA.
  • Fong EJ; Lawrence Livermore National Laboratory, Livermore, CA, 94550, USA.
  • Schwartz JJ; Lawrence Livermore National Laboratory, Livermore, CA, 94550, USA.
  • Porcincula DH; Lawrence Livermore National Laboratory, Livermore, CA, 94550, USA.
  • Kaczmarek AC; Lawrence Livermore National Laboratory, Livermore, CA, 94550, USA.
  • Oakdale JS; Lawrence Livermore National Laboratory, Livermore, CA, 94550, USA.
  • Moran BD; Lawrence Livermore National Laboratory, Livermore, CA, 94550, USA.
  • Champley KM; Lawrence Livermore National Laboratory, Livermore, CA, 94550, USA.
  • Rackson CM; Electrical, Computer, and Energy Engineering Department, University of Colorado, Boulder, CO, 80309, USA.
  • Muralidharan A; Materials Science and Engineering Program, University of Colorado, Boulder, CO, 80303, USA.
  • McLeod RR; Electrical, Computer, and Energy Engineering Department, University of Colorado, Boulder, CO, 80309, USA.
  • Shusteff M; Lawrence Livermore National Laboratory, Livermore, CA, 94550, USA.
Adv Mater ; 32(47): e2003376, 2020 Nov.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-33002275
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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Adv Mater Assunto da revista: BIOFISICA / QUIMICA Ano de publicação: 2020 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos
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