Assembly of sub-10-nm block copolymer patterns with mixed morphology and period using electron irradiation and solvent annealing.

Son, Jeong Gon; Chang, Jae-Byum; Berggren, Karl K; Ross, Caroline A

Son, Jeong Gon; Chang, Jae-Byum; Berggren, Karl K; Ross, Caroline A.

Afiliação

Son JG; Department of Materials Science and Engineering, Massachusetts Institute of Technology, Cambridge, Massachusetts 02139, United States.

Nano Lett ; 11(11): 5079-84, 2011 Nov 09.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-21992516

Assuntos

Cristalização/métodos; Nanoestruturas/química; Nanoestruturas/ultraestrutura; Polímeros/química; Solventes/química; Elétrons; Dureza; Teste de Materiais; Tamanho da Partícula; Propriedades de Superfície

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Polímeros / Solventes / Cristalização / Nanoestruturas Idioma: En Revista: Nano Lett Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos

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