Vapor-deposited parylene photoresist: a multipotent approach toward chemically and topographically defined biointerfaces. | Langmuir;28(40): 14313-22, 2012 Oct 09. | MEDLINE

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Vapor-deposited parylene photoresist: a multipotent approach toward chemically and topographically defined biointerfaces.

Wu, Mu-Gi; Hsu, Hung-Lun; Hsiao, Kai-Wen; Hsieh, Chih-Chen; Chen, Hsien-Yeh.

Afiliação

Wu MG; Department of Chemical Engineering, National Taiwan University, Taipei 10617, Taiwan.

Langmuir ; 28(40): 14313-22, 2012 Oct 09.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-22966949

Assuntos

Processos Fotoquímicos; Polímeros/química; Xilenos/química; Modelos Moleculares; Conformação Molecular; Polimerização; Volatilização

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Polímeros / Xilenos / Processos Fotoquímicos Idioma: En Revista: Langmuir Assunto da revista: QUIMICA Ano de publicação: 2012 Tipo de documento: Article País de afiliação: Taiwan

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