Magnetic reversal and thermal stability of CoFeB perpendicular magnetic tunnel junction arrays patterned by block copolymer lithography.

Tu, Kun-Hua; Fernandez, Eduardo; Almasi, Hamid; Wang, Weigang; Otero, David Navas; Ntetsikas, Konstantinos; Moschovas, Dimitrios; Avgeropoulos, Apostolos; Ross, Caroline A

Tu, Kun-Hua; Fernandez, Eduardo; Almasi, Hamid; Wang, Weigang; Otero, David Navas; Ntetsikas, Konstantinos; Moschovas, Dimitrios; Avgeropoulos, Apostolos; Ross, Caroline A.

Afiliação

Tu KH; Department of Materials Science and Engineering, Massachusetts Institute of Technology, Cambridge MA 02139, United States of America.

Nanotechnology ; 29(27): 275302, 2018 Jul 06.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-29633719

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