Temperature-dependent interfacial stiffness of the disorder layer in a thin Cu3Au alloy film

Ern C; Donner W; Dosch H; Adams B; Nowikow D.

Afiliação

Ern C; Max-Planck-Institut fur Metallforschung, D-70569 Stuttgart, Germany and Universitat Stuttgart, Institut fur Theoretische und Angewandte Physik, D-70569 Stuttgart, Germany.

Phys Rev Lett ; 85(9): 1926-9, 2000 Aug 28.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-10970649

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Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2000 Tipo de documento: Article

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