Control of self-assembly of lithographically patternable block copolymer films.

Bosworth, Joan K; Paik, Marvin Y; Ruiz, Ricardo; Schwartz, Evan L; Huang, Jenny Q; Ko, Albert W; Smilgies, Detlef-M; Black, Charles T; Ober, Christopher K

Bosworth, Joan K; Paik, Marvin Y; Ruiz, Ricardo; Schwartz, Evan L; Huang, Jenny Q; Ko, Albert W; Smilgies, Detlef-M; Black, Charles T; Ober, Christopher K.

Afiliação

Bosworth JK; Department of Materials Science and Engineering, Bard Hall, Cornell University, Ithaca, New York 14853, USA.

ACS Nano ; 2(7): 1396-402, 2008 Jul.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-19206307

Assuntos

Cristalização/métodos; Membranas Artificiais; Nanoestruturas/química; Nanoestruturas/ultraestrutura; Nanotecnologia/métodos; Poliestirenos/química; Substâncias Macromoleculares/química; Teste de Materiais; Conformação Molecular; Tamanho da Partícula; Propriedades de Superfície

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Poliestirenos / Cristalização / Nanotecnologia / Nanoestruturas / Membranas Artificiais Idioma: En Ano de publicação: 2008 Tipo de documento: Article

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