Interference lithographically defined and catalytically etched, large-area silicon nanocones from nanowires. | Nanotechnology;21(20): 205305, 2010 May 21. | MEDLINE

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Interference lithographically defined and catalytically etched, large-area silicon nanocones from nanowires.

Dawood, M K; Liew, T H; Lianto, P; Hong, M H; Tripathy, S; Thong, J T L; Choi, W K.

Afiliação

Dawood MK; Department of Electrical and Computer Engineering, National University of Singapore, 4 Engineering Drive 3, 117576 Singapore.

Nanotechnology ; 21(20): 205305, 2010 May 21.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-20418606

Assuntos

Nanopartículas Metálicas/química; Nanotecnologia/métodos; Nanofios/química; Silício/química; Catálise; Eletrônica; Desenho de Equipamento; Microscopia de Varredura por Sonda/instrumentação; Óptica e Fotônica

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Silício / Nanotecnologia / Nanopartículas Metálicas / Nanofios Idioma: En Ano de publicação: 2010 Tipo de documento: Article

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Silício / Nanotecnologia / Nanopartículas Metálicas / Nanofios Idioma: En Ano de publicação: 2010 Tipo de documento: Article