Metal plasma immersion ion implantation and deposition (MePIIID) on screw-shaped titanium implant: The effects of ion source, ion dose and acceleration voltage on surface chemistry and morphology.

Kang, Byung-Soo; Sul, Young-Taeg; Jeong, Yongsoo; Byon, Eungsun; Kim, Jong-Kuk; Cho, Suyeon; Oh, Se-Jung; Albrektsson, Tomas

Kang, Byung-Soo; Sul, Young-Taeg; Jeong, Yongsoo; Byon, Eungsun; Kim, Jong-Kuk; Cho, Suyeon; Oh, Se-Jung; Albrektsson, Tomas.

Afiliação

Kang BS; Department of Biomaterials/Handicap Research, Institute for Clinical Sciences, The Sahlgrenska Academy at University of Gothenburg, Gothenburg, Sweden. byung-soo.kang@biomaterials.gu.se

Med Eng Phys ; 33(6): 730-8, 2011 Jul.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-21334957

Assuntos

Materiais Revestidos Biocompatíveis/química; Implantes Dentários; Osseointegração; Titânio/química; Parafusos Ósseos; Cálcio/química; Estimulação Elétrica; Hidroxilação; Íons; Magnésio/química; Microscopia Eletrônica de Varredura; Espectroscopia Fotoeletrônica; Propriedades de Superfície

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Titânio / Implantes Dentários / Osseointegração / Materiais Revestidos Biocompatíveis Idioma: En Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article

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