Nanosphere natural lithography surface texturing as anti-reflective layer on SiC photodiodes.

Zhou, Qiugui; McIntosh, Dion C; Chen, Yaojia; Sun, Wenlu; Li, Zhi; Campbell, Joe C

Zhou, Qiugui; McIntosh, Dion C; Chen, Yaojia; Sun, Wenlu; Li, Zhi; Campbell, Joe C.

Afiliação

Zhou Q; Department of Electrical and Computer Engineering, University of Virginia, 351 McCormick Rd, Charlottesville, Virginia 22903, USA.

Opt Express ; 19(24): 23664-70, 2011 Nov 21.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-22109392

Assuntos

Compostos Inorgânicos de Carbono/química; Nanosferas/química; Nanotecnologia/instrumentação; Fotometria/instrumentação; Semicondutores; Compostos de Silício/química; Desenho de Equipamento; Análise de Falha de Equipamento; Luz; Fotografação/métodos; Espalhamento de Radiação

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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Fotometria / Semicondutores / Compostos de Silício / Compostos Inorgânicos de Carbono / Nanotecnologia / Nanosferas Idioma: En Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article

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