The model of nano-scale copper particle removal from silicon surface in high pressure CO2 + H2O and CO2 + H2O + IPA cleaning solutions.

Tan, Xin; Chai, Jiajue; Zhang, Xiaogang; Chen, Jiawei.

Afiliação

Tan X; Department of Chemistry, Renmin University of China, Beijing 100872, China.

J Nanosci Nanotechnol ; 11(12): 10782-6, 2011 Dec.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-22408995

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Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article

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