Direct imaging of 3D atomic-scale dopant-defect clustering processes in ion-implanted silicon.

Koelling, S; Richard, O; Bender, H; Uematsu, M; Schulze, A; Zschaetzsch, G; Gilbert, M; Vandervorst, W.

Afiliação

Koelling S; IMEC, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium. sebastian.koelling@cnt.fraunhofer.de

Nano Lett ; 13(6): 2458-62, 2013 Jun 12.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-23675857

Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article

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