High-resolution, high-throughput, positive-tone patterning of poly(ethylene glycol) by helium beam exposure through stencil masks.
PLoS One
; 8(5): e56835, 2013.
Article
em En
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| ID: mdl-23717382
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1
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Assunto principal:
Polietilenoglicóis
/
Gases em Plasma
/
Hélio
Idioma:
En
Ano de publicação:
2013
Tipo de documento:
Article