Room-temperature field effect transistors with metallic ultrathin TiN-based channel prepared by atomic layer delta doping and deposition.
Sci Rep
; 7(1): 875, 2017 04 13.
Article
em En
| MEDLINE
| ID: mdl-28408744
Texto completo:
1
Base de dados:
MEDLINE
Idioma:
En
Ano de publicação:
2017
Tipo de documento:
Article