In situ XPS analysis of the atomic layer deposition of aluminium oxide on titanium dioxide.

Temperton, Robert H; Gibson, Andrew; O'Shea, James N.

Afiliação

Temperton RH; School of Physics, University of Nottingham, Nottingham, NG7 2RD, UK. J.OShea@nottingham.ac.uk robert.temperton@nottingham.ac.uk.

Phys Chem Chem Phys ; 21(3): 1393-1398, 2019 Jan 21.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-30601499

Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2019 Tipo de documento: Article

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