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Niobium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering: Effect of Oxygen Flow Rate.
Fernandes, Silvia L; Affonço, Lucas J; Junior, Roberto A R; da Silva, José H D; Longo, Elson; Graeff, Carlos F de O.
Afiliação
  • Fernandes SL; Chemistry Department, Federal University of São Carlos (UFSCAR); sy.fernandes@hotmail.com.
  • Affonço LJ; Physics Department, School of Sciences, São Paulo State University (UNESP).
  • Junior RAR; Physics Department, School of Sciences, São Paulo State University (UNESP).
  • da Silva JHD; Physics Department, School of Sciences, São Paulo State University (UNESP).
  • Longo E; Chemistry Department, Federal University of São Carlos (UFSCAR).
  • Graeff CFO; Physics Department, School of Sciences, São Paulo State University (UNESP).
J Vis Exp ; (151)2019 09 28.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-31609305
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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Óxidos / Técnicas Eletroquímicas / Membranas Artificiais / Nióbio Idioma: En Ano de publicação: 2019 Tipo de documento: Article
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