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A multiple alignment workflow shows the effect of repeat masking and parameter tuning on alignment in plants.
Wu, Yaoyao; Johnson, Lynn; Song, Baoxing; Romay, Cinta; Stitzer, Michelle; Siepel, Adam; Buckler, Edward; Scheben, Armin.
Afiliação
  • Wu Y; Institute for Genomic Diversity, Cornell Univ., Ithaca, NY, 14853, USA.
  • Johnson L; Agricultural Genomics Institute at Shenzhen, Chinese Academy of Agricultural Sciences, Shenzhen, China.
  • Song B; Institute for Genomic Diversity, Cornell Univ., Ithaca, NY, 14853, USA.
  • Romay C; Institute for Genomic Diversity, Cornell Univ., Ithaca, NY, 14853, USA.
  • Stitzer M; Institute for Genomic Diversity, Cornell Univ., Ithaca, NY, 14853, USA.
  • Siepel A; Institute for Genomic Diversity, Cornell Univ., Ithaca, NY, 14853, USA.
  • Buckler E; Dep. of Molecular Biology and Genetics, Cornell Univ., Ithaca, NY, 14853, USA.
  • Scheben A; Simons Center for Quantitative Biology, Cold Spring Harbor Laboratory, Cold Spring Harbor, NY, 11724, USA.
Plant Genome ; 15(2): e20204, 2022 06.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-35416423
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Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Genoma de Planta / Genômica Idioma: En Ano de publicação: 2022 Tipo de documento: Article
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