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Thermal process of a silicon wafer under a CW laser and 100-10000 Hz pulsed laser irradiation.
Appl Opt ; 62(36): 9577-9582, 2023 Dec 20.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-38108783

Texto completo: 1 Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2023 Tipo de documento: Article

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