Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications.

Ratajczak, J; Laszcz, A; Czerwinski, A; Katcki, J; Phillipp, F; Van Aken, P A; Reckinger, N; Dubois, E

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Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications.

Ratajczak, J; Laszcz, A; Czerwinski, A; Katcki, J; Phillipp, F; Van Aken, P A; Reckinger, N; Dubois, E.

Afiliación

Ratajczak J; Institute of Electron Technology, Al. Lotników 32/46, 02-668 Warsaw, Poland. rataj@ite.waw.pl

J Microsc ; 237(3): 379-83, 2010 Mar.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-20500400

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Banco de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: J Microsc Año: 2010 Tipo del documento: Article País de afiliación: Polonia

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