Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications.
J Microsc
; 237(3): 379-83, 2010 Mar.
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Texto completo:
1
Colección:
01-internacional
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MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
J Microsc
Año:
2010
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Article
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Polonia