Determining the resolution limits of electron-beam lithography: direct measurement of the point-spread function. | Nano Lett;14(8): 4406-12, 2014 Aug 13. | MEDLINE

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Determining the resolution limits of electron-beam lithography: direct measurement of the point-spread function.

Manfrinato, Vitor R; Wen, Jianguo; Zhang, Lihua; Yang, Yujia; Hobbs, Richard G; Baker, Bowen; Su, Dong; Zakharov, Dmitri; Zaluzec, Nestor J; Miller, Dean J; Stach, Eric A; Berggren, Karl K.

Afiliación

Manfrinato VR; Electrical Engineering and Computer Science Department, MIT , Cambridge, Massachusetts 02139, United States.

Nano Lett ; 14(8): 4406-12, 2014 Aug 13.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-24960635

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Banco de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nano Lett Año: 2014 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos

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