In situ analysis of copper electrodeposition reaction using unilateral NMR sensor.

Gomes, B F; Nunes, L M S; Lobo, C M S; Carvalho, A S; Cabeça, L F; Colnago, L A

Gomes, B F; Nunes, L M S; Lobo, C M S; Carvalho, A S; Cabeça, L F; Colnago, L A.

Afiliación

Gomes BF; Instituto de Química de São Carlos, Universidade de São Paulo, Avenida Trabalhador São-Carlense 400, São Carlos, SP 13560-070, Brazil.
Nunes LM; Instituto de Química de São Carlos, Universidade de São Paulo, Avenida Trabalhador São-Carlense 400, São Carlos, SP 13560-070, Brazil.
Lobo CM; Instituto de Química de São Carlos, Universidade de São Paulo, Avenida Trabalhador São-Carlense 400, São Carlos, SP 13560-070, Brazil.
Carvalho AS; Instituto de Química de São Carlos, Universidade de São Paulo, Avenida Trabalhador São-Carlense 400, São Carlos, SP 13560-070, Brazil.
Cabeça LF; Universidade Tecnológica Federal do Paraná - UTFPR, Londrina, PR, Brazil.
Colnago LA; Embrapa Instrumentação, Rua XV de Novembro 1452, São Carlos, SP 13560-970, Brazil. Electronic address: luiz.colnago@embrapa.br.

J Magn Reson ; 261: 83-6, 2015 Dec.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-26540649

Palabras clave

Copper electrodeposition; Magnetoelectrolysis; Unilateral NMR sensor

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Banco de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: J Magn Reson Asunto de la revista: DIAGNOSTICO POR IMAGEM Año: 2015 Tipo del documento: Article País de afiliación: Brasil

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