Combining double patterning with self-assembled block copolymer lamellae to fabricate 10.5 nm full-pitch line/space patterns. | Nanotechnology;30(45): 455302, 2019 Nov 08. | MEDLINE

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Combining double patterning with self-assembled block copolymer lamellae to fabricate 10.5 nm full-pitch line/space patterns.

Zhou, Chun; Dolejsi, Moshe; Xiong, Shisheng; Ren, Jiaxing; Ashley, Elizabeth Michiko; Craig, Gordon S W; Nealey, Paul F.

Afiliación

Zhou C; Pritzker School of Molecular Engineering, The University of Chicago, 5801 South Ellis Avenue, Chicago, IL 60637, United States of America.

Nanotechnology ; 30(45): 455302, 2019 Nov 08.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-31342916

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Banco de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Año: 2019 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos

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