Editorial for the Special Issue on Recent Advances in Reactive Ion Etching and Applications of High-Aspect-Ratio Microfabrication. | Micromachines (Basel);14(8)2023 Aug 18. | MEDLINE

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Editorial for the Special Issue on Recent Advances in Reactive Ion Etching and Applications of High-Aspect-Ratio Microfabrication.

Romano, Lucia; Jefimovs, Konstantins.

Afiliación

Romano L; Institute for Biomedical Engineering, University and ETH Zürich, 8092 Zürich, Switzerland.
Jefimovs K; Paul Scherrer Institute, 5232 Villigen, Switzerland.

Micromachines (Basel) ; 14(8)2023 Aug 18.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-37630166

RESUMEN

Reactive ion etching (RIE) is the dominating technology for micromachining semiconductors with a high aspect ratio (HAR) [...].

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Banco de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Micromachines (Basel) Año: 2023 Tipo del documento: Article País de afiliación: Suiza

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