Lithography-Free Fabrication of Large Area Subwavelength Antireflection Structures Using Thermally Dewetted Pt/Pd Alloy Etch Mask.
Nanoscale Res Lett
; 4(4): 364-370, 2009 Jan 24.
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em En
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MEDLINE
Tipo de estudo:
Clinical_trials
Idioma:
En
Revista:
Nanoscale Res Lett
Ano de publicação:
2009
Tipo de documento:
Article