Damage mechanisms of MoN/SiN multilayer optics for next-generation pulsed XUV light sources. | Opt Express;19(1): 193-205, 2011 Jan 03. | MEDLINE

Conteúdo principal 1 Busca 2 Rodapé 3

+A A -A Alto contraste

BVS Violência e Saúde

Informação e Conhecimento para a Saúde

Localizar descritor de assunto Busca Avançada

Damage mechanisms of MoN/SiN multilayer optics for next-generation pulsed XUV light sources.

Sobierajski, R; Bruijn, S; Khorsand, A R; Louis, E; van de Kruijs, R W E; Burian, T; Chalupsky, J; Cihelka, J; Gleeson, A; Grzonka, J; Gullikson, E M; Hajkova, V; Hau-Riege, S; Juha, L; Jurek, M; Klinger, D; Krzywinski, J; London, R; Pelka, J B; Plocinski, T; Rasinski, M; Tiedtke, K; Toleikis, S; Vysin, L; Wabnitz, H; Bijkerk, F.

Afiliação

Sobierajski R; FOM-Institute for Plasma Physics Rijnhuizen, Nieuwegein, Netherlands. ryszard.sobierajski@ifpan.edu.pl

Opt Express ; 19(1): 193-205, 2011 Jan 03.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-21263557

Buscar no Google

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Opt Express Assunto da revista: OFTALMOLOGIA Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article País de afiliação: Holanda

Buscar no Google

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Opt Express Assunto da revista: OFTALMOLOGIA Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article País de afiliação: Holanda