Surface Relief Changes in Cholesteric Cyclosiloxane Oligomer Films at Different Temperatures.
J Phys Chem B
; 119(39): 12708-13, 2015 Oct 01.
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Idioma:
En
Revista:
J Phys Chem B
Assunto da revista:
QUIMICA
Ano de publicação:
2015
Tipo de documento:
Article