Robust Phonon-Plasmon Coupling in Quasifreestanding Graphene on Silicon Carbide.

Koch, R J; Fryska, S; Ostler, M; Endlich, M; Speck, F; Hänsel, T; Schaefer, J A; Seyller, Th

Koch, R J; Fryska, S; Ostler, M; Endlich, M; Speck, F; Hänsel, T; Schaefer, J A; Seyller, Th.

Afiliação

Koch RJ; Institut für Physik, Technische Universität Chemnitz, 09126 Chemnitz, Germany.
Fryska S; Lehrstuhl für Technische Physik, Universität Erlangen-Nürnberg, 91054 Erlangen, Germany.
Ostler M; Institut für Physik, Technische Universität Ilmenau, 98693 Ilmenau, Germany.
Endlich M; Institut für Mikro- und Nanotechnologien, Technische Universität Ilmenau, 98693 Ilmenau, Germany.
Speck F; Lehrstuhl für Technische Physik, Universität Erlangen-Nürnberg, 91054 Erlangen, Germany.
Hänsel T; Institut für Physik, Technische Universität Chemnitz, 09126 Chemnitz, Germany.
Schaefer JA; Lehrstuhl für Technische Physik, Universität Erlangen-Nürnberg, 91054 Erlangen, Germany.
Seyller T; Institut für Physik, Technische Universität Ilmenau, 98693 Ilmenau, Germany.

Phys Rev Lett ; 116(10): 106802, 2016 Mar 11.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-27015502

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Phys Rev Lett Ano de publicação: 2016 Tipo de documento: Article País de afiliação: Alemanha

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