In situ x-ray photoelectron spectroscopic and density-functional studies of Si atoms adsorbed on a C60 film.

Onoe, Jun; Nakao, Aiko; Hara, Toshiki.

Afiliación

Onoe J; Materials Science Division, Research Laboratory for Nuclear Reactors, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 O-okayama, Meguro, Tokyo 152-8550, Japan. jonoe@nr.titech.ac.jp

J Chem Phys ; 121(22): 11351-7, 2004 Dec 08.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-15634092

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Banco de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: J Chem Phys Año: 2004 Tipo del documento: Article País de afiliación: Japón

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