Mesostructured HfO2/Al2O3 Composite Thin Films with Reduced Leakage Current for Ion-Conducting Devices.

Zakaria, Mohamed Barakat; Nagata, Takahiro; Chikyow, Toyohiro

Mesostructured HfO₂/Al₂O₃ Composite Thin Films with Reduced Leakage Current for Ion-Conducting Devices.

Zakaria, Mohamed Barakat; Nagata, Takahiro; Chikyow, Toyohiro.

Afiliación

Zakaria MB; International Center for Materials Nanoarchitectonics (MANA), National Institute for Materials Science (NIMS), 1-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan.
Nagata T; Department of Chemistry, Faculty of Science, Tanta University, Tanta, Gharbeya 31527, Egypt.
Chikyow T; International Center for Materials Nanoarchitectonics (MANA), National Institute for Materials Science (NIMS), 1-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan.

ACS Omega ; 4(12): 14680-14687, 2019 Sep 17.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-31552307

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