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Impact of the precursor chemistry and process conditions on the cell-to-cell variability in 1T-1R based HfO2 RRAM devices.
Grossi, Alessandro; Perez, Eduardo; Zambelli, Cristian; Olivo, Piero; Miranda, Enrique; Roelofs, Robin; Woodruff, Jacob; Raisanen, Petri; Li, Wei; Givens, Michael; Costina, Ioan; Schubert, Markus Andreas; Wenger, Christian.
Afiliación
  • Grossi A; Dipartimento di Ingegneria, Università degli Studi di Ferrara, Via Saragat 1, Ferrara, Italy.
  • Perez E; IHP, Im Technologiepark 25, Frankfurt (Oder), 15236, Germany.
  • Zambelli C; Dipartimento di Ingegneria, Università degli Studi di Ferrara, Via Saragat 1, Ferrara, Italy. cristian.zambelli@unife.it.
  • Olivo P; Dipartimento di Ingegneria, Università degli Studi di Ferrara, Via Saragat 1, Ferrara, Italy.
  • Miranda E; Departament d'Enginyeria Electrónica, Universitat Autónoma de Barcelona, Campus UAB, Cerdanyola del Valles, Barcelona, Spain.
  • Roelofs R; ASM, Kapeldreef 75, Leuven, 3001, Belgium.
  • Woodruff J; ASM America, E University Dr, 3440, Phoenix, United States.
  • Raisanen P; ASM America, E University Dr, 3440, Phoenix, United States.
  • Li W; ASM America, E University Dr, 3440, Phoenix, United States.
  • Givens M; ASM America, E University Dr, 3440, Phoenix, United States.
  • Costina I; IHP, Im Technologiepark 25, Frankfurt (Oder), 15236, Germany.
  • Schubert MA; IHP, Im Technologiepark 25, Frankfurt (Oder), 15236, Germany.
  • Wenger C; IHP, Im Technologiepark 25, Frankfurt (Oder), 15236, Germany. wenger@ihp-microelectronics.com.
Sci Rep ; 8(1): 11160, 2018 07 24.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-30042433
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Texto completo: 1 Bases de datos: MEDLINE Asunto principal: Óxidos / Transistores Electrónicos / Equipos de Almacenamiento de Computador / Impedancia Eléctrica / Conductividad Eléctrica / Hafnio Tipo de estudio: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Sci Rep Año: 2018 Tipo del documento: Article País de afiliación: Italia
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Texto completo: 1 Bases de datos: MEDLINE Asunto principal: Óxidos / Transistores Electrónicos / Equipos de Almacenamiento de Computador / Impedancia Eléctrica / Conductividad Eléctrica / Hafnio Tipo de estudio: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Sci Rep Año: 2018 Tipo del documento: Article País de afiliación: Italia