Intensity modulation based optical proximity optimization for the maskless lithography.
Opt Express
; 28(1): 548-557, 2020 Jan 06.
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Texto completo:
1
Bases de datos:
MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
Opt Express
Asunto de la revista:
OFTALMOLOGIA
Año:
2020
Tipo del documento:
Article