Strained germanium thin film membrane on silicon substrate for optoelectronics.

Nam, Donguk; Sukhdeo, Devanand; Roy, Arunanshu; Balram, Krishna; Cheng, Szu-Lin; Huang, Kevin Chih-Yao; Yuan, Ze; Brongersma, Mark; Nishi, Yoshio; Miller, David; Saraswat, Krishna

Nam, Donguk; Sukhdeo, Devanand; Roy, Arunanshu; Balram, Krishna; Cheng, Szu-Lin; Huang, Kevin Chih-Yao; Yuan, Ze; Brongersma, Mark; Nishi, Yoshio; Miller, David; Saraswat, Krishna.

Afiliação

Nam D; Department of Electrical Engineering, Stanford University, Stanford, California 94305, USA. dwnam@stanford.edu

Opt Express ; 19(27): 25866-72, 2011 Dec 19.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-22274174

Assuntos

Eletrônica/instrumentação; Germânio/química; Germânio/efeitos da radiação; Membranas Artificiais; Fotometria/métodos; Semicondutores; Silício/química; Desenho de Equipamento; Luz; Dispositivos Ópticos

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Texto completo: 1 Bases de dados: MEDLINE Assunto principal: Fotometria / Semicondutores / Silício / Eletrônica / Germânio / Membranas Artificiais Tipo de estudo: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Opt Express Assunto da revista: OFTALMOLOGIA Ano de publicação: 2011 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos

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