Design Optimization of InGaAs/GaAsSb-Based P-Type Gate-All-Around Arch-Shaped Tunneling Field-Effect Transistor.
J Nanosci Nanotechnol
; 19(10): 6762-6766, 2019 Oct 01.
Article
em En
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| ID: mdl-31027025
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1
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MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
J Nanosci Nanotechnol
Ano de publicação:
2019
Tipo de documento:
Article
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Coréia do Sul