A Comparative Study on the Ferroelectric Performances in Atomic Layer Deposited Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films Using Tetrakis(ethylmethylamino) and Tetrakis(dimethylamino) Precursors.
Nanoscale Res Lett
; 15(1): 72, 2020 Apr 07.
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Revista:
Nanoscale Res Lett
Ano de publicação:
2020
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