Factors contributing to the yield of asymmetric bilateral implantation of intracranial electrodes.

Lee, Ricky W; Mandrekar, Jay; Worrell, Gregory A; Cascino, Gregory D; Wetjen, Nicholas M; Meyer, Fredric B; Wirrell, Elaine C; Marsh, W Richard; So, Elson

Lee, Ricky W; Mandrekar, Jay; Worrell, Gregory A; Cascino, Gregory D; Wetjen, Nicholas M; Meyer, Fredric B; Wirrell, Elaine C; Marsh, W Richard; So, Elson.

Afiliación

Lee RW; Department of Neurology, Mayo Clinic, Rochester, Minnesota, U.S.A.

Epilepsia ; 55(10): 1620-5, 2014 Oct.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-25196143

Asunto(s)

Encéfalo/fisiopatología; Electrodos Implantados; Convulsiones/etiología; Adulto; Mapeo Encefálico/métodos; Niño; Electroencefalografía; Epilepsia del Lóbulo Temporal/etiología; Epilepsia del Lóbulo Temporal/fisiopatología; Epilepsia del Lóbulo Temporal/cirugía; Femenino; Humanos; Masculino; Estudios Retrospectivos; Convulsiones/fisiopatología; Convulsiones/cirugía; Resultado del Tratamiento

Palabras clave

Epilepsy; Epilepsy surgery; Intracranial electroencephalography

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Texto completo: 1 Banco de datos: MEDLINE Asunto principal: Convulsiones / Encéfalo / Electrodos Implantados Tipo de estudio: Etiology_studies / Observational_studies / Prognostic_studies / Risk_factors_studies Límite: Adult / Child / Female / Humans / Male Idioma: En Año: 2014 Tipo del documento: Article

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