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Kinetic modeling of relaxation phenomena after photodetachment in a rf electronegative SiH4 discharge.
Yan, M; Bogaerts, A; Gijbels, R; Goedheer, W J.
Afiliación
  • Yan M; Department of Chemistry, University of Antwerp (UIA), Universiteitsplein 1, B-2610 Wilrijk-Antwerp, Belgium. yan@uia.ua.ac.be
Phys Rev E Stat Nonlin Soft Matter Phys ; 63(2 Pt 2): 026405, 2001 Feb.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-11308583
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Base de datos: MEDLINE Tipo de estudio: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Phys Rev E Stat Nonlin Soft Matter Phys Asunto de la revista: BIOFISICA / FISIOLOGIA Año: 2001 Tipo del documento: Article
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Base de datos: MEDLINE Tipo de estudio: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Phys Rev E Stat Nonlin Soft Matter Phys Asunto de la revista: BIOFISICA / FISIOLOGIA Año: 2001 Tipo del documento: Article