Dissociation of a product of a surface reaction in the gas phase: XeF2 reaction with Si.

Hefty, R C; Holt, J R; Tate, M R; Gosalvez, D B; Bertino, M F; Ceyer, S T.

Afiliación

Hefty RC; Department of Chemistry, Massachusetts Institute of Technology, Cambridge, MA 02139, USA.

Phys Rev Lett ; 92(18): 188302, 2004 May 07.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-15169537

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Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Phys Rev Lett Año: 2004 Tipo del documento: Article

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