Microstructural investigation of nickel silicide thin films and the silicide-silicon interface using transmission electron microscopy.

Bhaskaran, M; Sriram, S; Mitchell, D R G; Short, K T; Holland, A S; Mitchell, A

Bhaskaran, M; Sriram, S; Mitchell, D R G; Short, K T; Holland, A S; Mitchell, A.

Afiliación

Bhaskaran M; Microelectronics and Materials Technology Centre, School of Electrical and Computer Engineering, RMIT University, GPO Box 2476V, Melbourne, Victoria 3001, Australia. madhu.bhaskaran@gmail.com

Micron ; 40(1): 11-4, 2009 Jan.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-18337112

Asunto(s)

Microscopía Electrónica de Transmisión; Níquel/química; Compuestos de Silicona/química; Silicio/química

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Texto completo: 1 Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Silicio / Compuestos de Silicona / Microscopía Electrónica de Transmisión / Níquel Idioma: En Revista: Micron Asunto de la revista: DIAGNOSTICO POR IMAGEM Año: 2009 Tipo del documento: Article

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