Photolithography-Based Nanopatterning Using Re-entrant Photoresist Profile.
ACS Appl Mater Interfaces
; 10(9): 8117-8123, 2018 Mar 07.
Article
en En
| MEDLINE
| ID: mdl-29345131
Texto completo:
1
Base de datos:
MEDLINE
Tipo de estudio:
Clinical_trials
Idioma:
En
Revista:
ACS Appl Mater Interfaces
Asunto de la revista:
BIOTECNOLOGIA
/
ENGENHARIA BIOMEDICA
Año:
2018
Tipo del documento:
Article