Large-Area Nanopatterning Based on Field Alignment by the Microscale Metal Mask for the Etching Process.
ACS Appl Mater Interfaces
; 11(39): 36177-36185, 2019 Oct 02.
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| ID: mdl-31495170
Texto completo:
1
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MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
ACS Appl Mater Interfaces
Asunto de la revista:
BIOTECNOLOGIA
/
ENGENHARIA BIOMEDICA
Año:
2019
Tipo del documento:
Article