Maskless optical microscope lithography system. | Rev Sci Instrum;80(12): 126101, 2009 Dec. | MEDLINE

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Maskless optical microscope lithography system.

Park, Eung Seok; Jang, Doyoung; Lee, Jaewoo; Kim, Yun Jeong; Na, Junhong; Ji, Hyunjin; Choi, Jae Wan; Kim, Gyu-Tae.

Afiliación

Park ES; School of Electrical Engineering, Korea University, Seoul 136-701, Republic of Korea.

Rev Sci Instrum ; 80(12): 126101, 2009 Dec.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-20059175

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Texto completo: 1 Banco de datos: MEDLINE Tipo de estudio: Clinical_trials Idioma: En Revista: Rev Sci Instrum Año: 2009 Tipo del documento: Article

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