Etch characteristics of magnetic tunnel junction materials using bias pulsing in the CH4/N2O inductively coupled plasma.

Jeon, Min Hwan; Youn, Ji Youn; Yang, Kyung Chae; Yun, Deok Hyun; Lee, Du Yeong; Shim, Tae Hun; Park, Jea Gun; Yeom, Geun Young.

J Nanosci Nanotechnol ; 14(12): 9541-7, 2014 Dec.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-25971096

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Banco de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Año: 2014 Tipo del documento: Article

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