Tin dioxide nanoparticles as catalyst precursors for plasma-assisted vapor-liquid-solid growth of silicon nanowires with well-controlled density.

Dai, Letian; Maurin, Isabelle; Foldyna, Martin; Alvarez, José; Wang, Weixi; Mohsin, Hamza; Chen, Wanghua; Kleider, Jean-Paul; Maurice, Jean-Luc; Gacoin, Thierry; Roca I Cabarrocas, Pere

Dai, Letian; Maurin, Isabelle; Foldyna, Martin; Alvarez, José; Wang, Weixi; Mohsin, Hamza; Chen, Wanghua; Kleider, Jean-Paul; Maurice, Jean-Luc; Gacoin, Thierry; Roca I Cabarrocas, Pere.

Afiliación

Dai L; GeePs, CNRS, CentraleSupelec, Université Paris-Sud, Université Paris-Saclay, Sorbonne Université-UPMC Université Paris 06, 91192 Gif-sur-Yvette Cedex, France. LPICM, CNRS, Ecole Polytechnique, Université Paris-Saclay, F-91128 Palaiseau, France. Physique de la Matière Condensée, CNRS, Ecole Polytechnique, Université Paris-Saclay, F-91128 Palaiseau, France.

Nanotechnology ; 29(43): 435301, 2018 Oct 26.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-30074483

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