In Situ-Doped Silicon Thin Films for Passivating Contacts by Hot-Wire Chemical Vapor Deposition with a High Deposition Rate of 42 nm/min.
ACS Appl Mater Interfaces
; 11(33): 30493-30499, 2019 Aug 21.
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1
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MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
ACS Appl Mater Interfaces
Asunto de la revista:
BIOTECNOLOGIA
/
ENGENHARIA BIOMEDICA
Año:
2019
Tipo del documento:
Article
País de afiliación:
China