Sub-10-nm-thick SiN nanopore membranes fabricated using the SiO<sub>2</sub>sacrificial layer process.

Yanagi, Itaru; Takeda, Ken-Ichi

Sub-10-nm-thick SiN nanopore membranes fabricated using the SiO₂sacrificial layer process.

Yanagi, Itaru; Takeda, Ken-Ichi.

Afiliación

Yanagi I; Center for Technology Innovation-Healthcare, Research & Development Group, Hitachi, Ltd, 1-280, Higashi-koigakubo, Kokubunji, Tokyo, 185-8603, Japan.
Takeda KI; Center for Technology Innovation-Healthcare, Research & Development Group, Hitachi, Ltd, 1-280, Higashi-koigakubo, Kokubunji, Tokyo, 185-8603, Japan.

Nanotechnology ; 32(41)2021 Jul 20.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-34214991

Palabras clave

membrane; nanopore; silicon nitride; thin membrane

Texto completo

Imprimir

XML

PubMed Links

Buscar en Google

Texto completo: 1 Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Año: 2021 Tipo del documento: Article País de afiliación: Japón

Texto completo

Imprimir

XML

PubMed Links

Buscar en Google

Texto completo: 1 Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Año: 2021 Tipo del documento: Article País de afiliación: Japón