On the mechanism of low-pressure imprint lithography: capillarity vs viscous flow.

Khang, Dahl-Young; Lee, Hong H

Khang, Dahl-Young; Lee, Hong H.

Afiliação

Khang DY; School of Chemical Engineering, Seoul National University, Seoul, 151-742, Korea.

Langmuir ; 24(10): 5459-63, 2008 May 20.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-18412377

Assuntos

Ação Capilar; Nanotecnologia/métodos; Nanotubos/química; Pressão; Pressão Atmosférica; Biofísica/métodos; Desenho de Equipamento; Teste de Materiais; Tamanho da Partícula; Polímeros/química; Propriedades de Superfície; Temperatura; Viscosidade

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Pressão / Ação Capilar / Nanotecnologia / Nanotubos Tipo de estudo: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Langmuir Assunto da revista: QUIMICA Ano de publicação: 2008 Tipo de documento: Article

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