Structural and electrical properties of ZnO films deposited with low-temperature facing targets magnetron sputtering (FTS) system with changes in H2 and O2 flow rate.
J Nanosci Nanotechnol
; 13(11): 7745-50, 2013 Nov.
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em En
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| ID: mdl-24245326
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Coleções:
01-internacional
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MEDLINE
Assunto principal:
Oxigênio
/
Óxido de Zinco
/
Nanoestruturas
/
Galvanoplastia
/
Hidrogênio
/
Membranas Artificiais
Idioma:
En
Revista:
J Nanosci Nanotechnol
Ano de publicação:
2013
Tipo de documento:
Article