Structural and electrical properties of ZnO films deposited with low-temperature facing targets magnetron sputtering (FTS) system with changes in H2 and O2 flow rate.

Kim, Hye Ran; Jin, Su Bong; Wen, Long; Choi, Yoon Seok; Choi, In Sik; Han, Jeon Geon

Kim, Hye Ran; Jin, Su Bong; Wen, Long; Choi, Yoon Seok; Choi, In Sik; Han, Jeon Geon.

Afiliação

Kim HR; Center for Advanced Plasma Surface Technology, Sungkyunkwan University, 300 Chunchun-dong, Jangan-gu, Suwon, 440-746, Republic of Korea.

J Nanosci Nanotechnol ; 13(11): 7745-50, 2013 Nov.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-24245326

Assuntos

Galvanoplastia/métodos; Hidrogênio/química; Membranas Artificiais; Nanoestruturas/química; Nanoestruturas/ultraestrutura; Oxigênio/química; Óxido de Zinco/síntese química; Cristalização/métodos; Condutividade Elétrica; Substâncias Macromoleculares/química; Teste de Materiais; Micro-Ondas; Conformação Molecular; Tamanho da Partícula; Propriedades de Superfície; Temperatura

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Oxigênio / Óxido de Zinco / Nanoestruturas / Galvanoplastia / Hidrogênio / Membranas Artificiais Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article

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